Заказ работы

Заказать
Каталог тем

Самые новые

Значок файла Неразрушающие методы контроля Ультразвуковая дефектоскопия отливок Методические указания к выполнению практических занятий по курсу «Метрология, стандартизация и сертификация» Специальность «Литейное производство черных и цветных металлов» (110400), специализации (110401) и (110403) (2)
(Методические материалы)

Значок файла Муфта включения с поворотной шпонкой кривошипного пресса: Метод. указ. / Сост. В.А. Воскресенский, СибГИУ. - Новокуз-нецк, 2004. - 4 с (3)
(Методические материалы)

Значок файла Материальный и тепловой баланс ваграночной плавки. Методические указания /Составители: Н. И. Таран, Н. И. Швидков. СибГИУ – Новокузнецк, 2004. – 30с (3)
(Методические материалы)

Значок файла Изучение конструкции и работы лабораторного прокатного стана дуо «200» :Метод. указ. / Сост.: В.А. Воскресенский, В.В. Почетуха: ГОУ ВПО «СибГИУ». - Новокузнецк, 2003. - 8 с (4)
(Методические материалы)

Значок файла Дипломное проектирование: Метод. указ. / Сост.: И.К.Коротких, А.А.Усольцев, А.И.Куценко: СибГИУ - Новокузнецк, 2004- 21 с (4)
(Методические материалы)

Значок файла Влияние времени перемешивания смеси на ее прочность в сыром состоянии и газопроницаемость: метод. указ./ Сост.: Климов В.Я. – СибГИУ: Новокузнецк, 2004. – 8 с. (4)
(Методические материалы)

Значок файла Вероятностно-статистический анализ эксперимента: Метод. указ. / Сост.: О.Г. Приходько: ГОУ ВПО «СибГИУ». – Новокузнецк. 2004. – 18 с., ил. (3)
(Методические материалы)

Каталог бесплатных ресурсов

Особенности фотопроводимости монокристаллов сульфида кадмия при комбинированном возбуждении

Содержание

 

Введение

Глава 1. Фотоэлектрические свойства неоднородных

полупроводниковых образцов

1.1.          Свойства кристаллов, подвергнутых обработке в газовом разряде

1.2.          Фотопроводимость при наличии запирающего барьера

1.3.          Фотовольтаический эффект в полупроводниках с электрической     

           неоднородностью

1.4.          Особенности фотопроводимости, обусловленные неоднородным   

          освещением

1.5     Обогащенный контактный слой в отсутствие тока

Глава 2. Энергетическая структура омического контакта в присутствии неравномерно распределенных электронных ловушек

2.1.    Влияние ловушек на структуру барьера. Предварительный анализ

2.2.          Распределение энергии в приконтактных слоях полупроводника с ловушками для электронов

2.3.    Структура барьера в истощенном слое

2.4.    Детализация явного вида функции распределения энергии

2.5.    Энергетический профиль барьера в объеме полупроводника

2.6.    Влияние освещения на профиль барьер

Глава 3. Фотоэлектрические свойства кристаллов, обработанных в

           газовом разряде

3.1.    Технология легирования образцов

3.2     Вольтамперные характеристики исследуемых структур

3.3.    Спектральное распределение фототока

3.4.    Спектральное распределение фото-э.д.с

3.5.    Люкс-амперные характеристики

Выводы

Литература

Введение

 

Качество омических контактов к различным полупроводниковым устройствам является определяющим для их надежного и долговременного функционирования. Этим обеспечивается значительный интерес ко всем аспектам работы таких контактов – их созданию, особенностям протекания тока через них.

Вместе с тем известно, что свойства полупроводниковых веществ могут изменяться в широких пределах в зависимости от количества и качества образовавшихся дефектов. Разумеется, это неизбежно должно сказываться и на контактирующей части полупроводникового кристалла.

В настоящей работе рассмотрена задача о поведении изначально омического контакта к полупроводнику при появлении в его области пространственного заряда неравномерно распределенных электронных ловушек. Несмотря на очевидную актуальность этой проблемы, в литературе она практически не освещена.

Введение ловушечных центров в приконтактную область полупроводника, по-видимому, может кардинально изменить энергетическую структуру этой области. В частности, в случае электронных ловушек, возможно образование запирающего барьера. При этом значительно изменяются условия токопереноса и возникают специфические эффекты, близкие по природе к отрицательной фотопроводимости.

Мы ставим себе задачей выведение формулы, описывающей, как в темноте, так и на свету, вид возникающего барьера в зоне проводимости. А также определения связи параметров этого барьера – его ширины, высоты, координаты максимума, крутизны стенок – от свойств ловушек – их энергетической глубины, начальной концентрации и распределения по глубине образца. В тех случаях, когда прямой анализ был затруднителен, выявлялись, по крайней мере, тенденции зависимости.

Целью настоящей работы является показать, что неравномерно  распределенные электронные ловушки способны сформировать запирающий барьер в области пространственного заряда омического контакта. Параметры его однозначно связанны с параметрами ловушек и значит, управляются технологически. При этом благодаря  возникшему барьеру полупроводниковый кристалл приобретает новые свойства, в том числе и аномальные.

ГЛАВА 1

 

Фотоэлектрические свойства неоднородных полупроводниковых образцов

 

1.1.         Свойства кристаллов, подвергнутых

 обработке в газовом разряде

 

Изменения фотопроводимости, вызванные обработкой монокристаллических образцов халькогенидов кадмия в газовом разряде исследовали авторы [1-3]. Технология такой обработки заключается в следующем. Образец помещался в вакууме ~ 10-2?10-3 мм.рт.ст. между электродами, к которым прикладывалось напряжение порядка нескольких киловольт. Использовались переменные поля промышленной частоты. В образовавшемся стримере разряда происходит бомбардировка заряженными частицами поверхности образца.

Об­работка поверхности монокрис­таллов халькогенидов кадмия газо­вым разрядом приводит к су­щественному изменению вида вольтамперных характеристик.[2]. До обработки они линейны во всем интервале применяемых напряжений. После обработки линейный участок темновой вольтамперной харак-теристики  (рис. 1.1, кривая 1) сохраня­ется лишь при начальных на­пряжениях. Затем зависимость тока от напряжения становится сублинейной, достигая насыще­ния. При достаточно высоких электрических полях она пе­реходит в зависимость вида I ~V* где    п > 2. При освеще­нии кристалла (рис. 1, кривая 2) светом с ? = 740 нм зависи­мость Iф(V) сохраняет все осо­бенности предыдущей кривой. Характерным является то, что при указанной подсветке в не­котором интервале напряжений кривая 2 проходит ниже кривой 1, т.е. ток, измеренный при возбуж­дении кристалла светом, оказывается меньшим темнового. При под­светке излучением из глубины полосы собственного поглощения (? = 500 нм) характеристика почти спрямляется в широкой области на­пряжений  (рис. 1.1, кривая 3).

Обработка газовым разрядом поверхности кристаллов халькогенидов кадмия, наряду с уменьшением поверхностной рекомбинации, приводит к созданию большой концентрации электрон­ных ловушек в приповерхностном слое. Это должно вызвать не только резкое возрастание инерционности фототока, что действительно наблю­дается на опыте, но и уменьшение подвижности свободных носителей ? за счет дополнительного рассеяния их на заполненных электронами  ловушках. Перезарядка ловушек может происходить как фотовозбужденными, так и инжектированными в кристалл электронами. Учитывая это, сублинейность и насыщение вольтамперных характеристик можно объяснить уменьшением подвижности за счет возрастания с увеличением напряжения концентрации инжектиро­ванных в образец электронов, заполняющих ловушки в припо­верхностном слое кристалла. Последующее быстрое возрастание тока с ростом напряжения может быть объяснено процессами, при­водящими к размножению свобод­ных носителей с помощью элек­трического поля (освобождение мелких ловушек полем или удар­ная их ионизация быстро движу­щимися электронами).

Рис. 1.1.Вольт – амперные характеристики    монокристалла CdSe,   обработанного   газовым разрядом.        1 - в темноте,

2-при освещении светом с ?=730 нм, 3-при освещении светом с ?=500 нм.

Наблюдаемое уменьшение тока  при освещении кристалла светом из области 730 нм можно интерпретировать как следствие увеличения числа рассеивающих центров при подсветке. Это может соответствовать заполнению ловушек фотоэлектронами или подъему электронов непосредственно из валентной зоны на уровни дефектов. Сравнение кривых 1 и 2 рисунка 1.1 показывает, что существует некоторая область напряжений, где ток, измеренный при освещении, имеет меньшую величину, чем соответствующий темновой ток. Это может произойти в результате настолько значительного уменьшения подвижности свобо­дных носителей, что возрастание их концентрации в результате фотовоз-буждения  оказывается недостаточным для         увеличения световой проводимости по  сравнению с темновой.  Возрастание эффекта с увеличением электрического поля связано с повышением концентрации рассеивающих центров, вследствие заполнения ловушек электронами. Однако, при достаточно боль­ших полях начинает сказываться ударная ионизация ловушек. Наибольшие изменения фотопроводимости достигается как результат равно­весия между этими двумя эффектами.

В случае возбуждения кристалла сильно поглощаемым светом фототок создается в тонком приповерхностном слое, что соответствует высокой плотности свободных носителей. Тогда ловушки уже полностью насыщены электронами, и инжектированные полем носители не меняют их зарядового состояния. При такой ситуации сублинейность зависи­мости фототока от напряжения проявляется слабо [2] (рис.1.1, кривая 3).

Резкая за­висимость эффекта от длины волны возбуждающего света показывает, что здесь сущес­твенную роль играет глубина проникновения света, т.е. за­висимость коэффициента погло­щения CdSe от длины волны возбуждающего света. При этом нужно учитывать, что обработка монокристалла газо­вым разрядом, вызывает повы­шение концентрации ловушек в тонком приповерхностном слое. Поэ­тому изменение фотопроводимости в дан­ном случае зависит от соотношения глуби­ны проникновения возбуждающего света в образец и глубины распространения рассеивающих центров. Если свет пол­ностью поглощается в очень тонком по­верхностном слое, то это соответствует случаю высокой плотности возбуждения. При проникновении возбужда­ющего света на большую глубину в кристалл свободные носители рождаются во всем объеме полупроводника, где плот­ность ловушек не повышена обработкой. Это снова приводит к стимулированию фототока. Наиболее благоприятным слу­чаем для  изменения фотопроводимости можно считать совпа­дение глубины проникновения света с глубиной расположения ловушек.

 

1.2.         Фотопроводимость при наличии

 запирающего барьера

 

Авторы [4] наблюдали, что при освещении проводимость пленок CdS1-xSex сначала незначительно увеличивается, а потом резко уменьшается относительно темнового тока. С ростом интенсивности света зависимость имеет характер насыщения. При оптимальных условиях кратность фотоответа составляла    ? = IT/IF ? 103 (IТ — значение темнового, а IFсветового тока). Причём проявляется лишь в некоторых интерва­лах значений интенсивности падающего на об­разец светового потока, приложенного напряжения и температуры.

На рис. 1.2 приведены вольт-амперные харак­теристики (ВАХ) пленок CdS0,6Se0,4, не подверг­нутых термической обработке. Кривая 2 (см. рис. 1.2) иллюстрирует зависи­мость темнового тока от приложенного напря­жения. При малых напряжениях (0—6 В) на ВАХ наблюдается линейный участок. С увеличением напряжения от 6 до 20 В линейный участок ВАХ переходит в суперлинейный участок, а при более высоких напряжениях зависимость имеет вид I ~ U?, где ? > 2.

Подпись: Рис.1.2. Волтьт-амперная характеристика образцов при различных условиях, Т=300К: 
1 - световой; 2 - темновой; 
3 - в состоянии с участием барьеровПри уменьшении приложен­ного напряжения на ВАХ наблюдается гистере­зис. С увеличением интенсивности падающего света образцы показывают остаточную проводимость (см.рис.1.2, кривая 3), и при более высоких значениях интенсивности света характеристика почти спрямляется в широкой области напряженности электрического поля (рис.1.2, кривая1) (0,5-130 В/см)



Размер файла: 828.69 Кбайт
Тип файла: rar (Mime Type: application/x-rar)
Заказ курсовой диплома или диссертации.

Горячая Линия


Вход для партнеров